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해당글은 해당기업에 대한 개인적인 조사를 바탕으로 작성되었습니다. 판단은 개인의 몫임을 알려드리며 최대한 편향되지 않고 정확한 정보를 전달해드리기 위해 노력하겠습니다. 1. 기업분석 2. EUV 펠리클 개발 이슈 3. 재무분석 1. 기업분석 에스앤에스텍은 반도체 및 평판디스플레이(FPD, Flat Panel Display) 제조공정에 사용되어 지는 블랭크마스크 제조 및 판매를 주된 사업으로 하고 있습니다. 반도체용 블랭크마스크 반도체용 블랭크 마스크는 DRAM과 같이 한정된 크기내에서 회로의 고집적화를 위해 일반적으로 수백 ~ 수십나노 크기의 패턴을 갖는 포토마스트의 원재료로서 사용됩니다. 해상도(Resolution) 향상을 위해 기판, 금속막 및 레지스트막 특성이 중요한 요소로 작용되며, 또한 구현하고..

해당글은 해당기업에 대한 개인적인 조사를 바탕으로 작성되었습니다. 최종적인 판단의 책임은 본인에게 있음을 알려드립니다. 최대한 정확한 정보를 전달해드리기 위해 노력하겠습니다. 1. 사업분야 2. 블랭크 마스크의 중요성 3. 재무분석 1. 사업분야 에스앤에스텍은 반도체 공정에 들어가는 부품중에서도 블랭크 마스크라는 부품에 독보적인 기술력을 가진 기업입니다. 블랭크마스크는 반도체 및 디스플레이 공정재료인 포토마스크의 원재료로 패턴이 노광되기 전의 마스크를 의미하여, 석영유리기판 위에 금속박막 필름이 증착되고 그 위에 감광액이 도포된 형태로 이루어져 있습니다. 반도체용 블랭크 마스크를 이용하여 노광, 현상 및 검사와 같은 일련의 공정을 통해 포토마스크를 제조한 후 반도체 제조 공정을 통해 대량의 반도체 소자가..